常州碳化硅晶圓切割寬度

中清航科IoT平臺(tái)通過(guò)振動(dòng)傳感器+電流波形分析，提前72小時(shí)預(yù)警主軸軸承磨損、刀片鈍化等故障。數(shù)字孿生模型模擬設(shè)備衰減曲線，備件更換周期精度達(dá)±5%，設(shè)備綜合效率（OEE）提升至95%。機(jī)械切割引發(fā)的殘余應(yīng)力會(huì)導(dǎo)致芯片分層失效。中清航科創(chuàng)新采用超聲波輔助切割，高頻振動(dòng)（40kHz）使材料塑性分離，應(yīng)力峰值降低60%。該技術(shù)已獲ISO 14649認(rèn)證，適用于汽車電子AEC-Q100可靠性要求。Chiplet架構(gòu)需對(duì)同片晶圓分區(qū)切割。中清航科多深度切割系統(tǒng)支持在單次制程中實(shí)現(xiàn)5-200μm差異化切割深度，精度±1.5μm。動(dòng)態(tài)焦距激光模塊配合高速振鏡，完成異構(gòu)芯片的高效分離。

在晶圓切割設(shè)備的自動(dòng)化升級(jí)浪潮中，中清航科走在行業(yè)前列。其新推出的智能切割單元，可與前端光刻設(shè)備、后端封裝設(shè)備實(shí)現(xiàn)無(wú)縫對(duì)接，通過(guò) SECS/GEM 協(xié)議完成數(shù)據(jù)交互，實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體生產(chǎn)全流程的自動(dòng)化閉環(huán)。該單元還具備自我診斷功能，能提前預(yù)警潛在故障，將非計(jì)劃停機(jī)時(shí)間減少 60%，為大規(guī)模生產(chǎn)提供堅(jiān)實(shí)保障。對(duì)于小尺寸晶圓的切割，傳統(tǒng)設(shè)備往往面臨定位難、效率低的問(wèn)題。中清航科專門設(shè)計(jì)了針對(duì) 2-6 英寸小晶圓的切割工作站，采用多工位旋轉(zhuǎn)工作臺(tái)，可同時(shí)處理 8 片小晶圓，切割效率較單工位設(shè)備提升 4 倍。配合特制的彈性吸盤，能有效避免小晶圓吸附時(shí)的損傷，特別適合 MEMS 傳感器、射頻芯片等小批量高精度產(chǎn)品的生產(chǎn)。衢州碳化硅晶圓切割寬度切割冷卻液在線凈化裝置中清航科研發(fā)，雜質(zhì)濃度自動(dòng)控制＜1ppm。

GaN材料硬度高且易產(chǎn)生解理裂紋。中清航科創(chuàng)新水導(dǎo)激光切割（Water Jet Guided Laser），利用高壓水柱約束激光束，冷卻與沖刷同步完成。崩邊尺寸<8μm，熱影響區(qū)只2μm，滿足射頻器件高Q值要求。設(shè)備振動(dòng)導(dǎo)致切割線寬波動(dòng)。中清航科應(yīng)用主動(dòng)磁懸浮阻尼系統(tǒng)，通過(guò)6軸加速度傳感器實(shí)時(shí)生成反向抵消力，將振幅壓制在50nm以內(nèi)。尤其適用于超窄切割道（<20μm）的高精度需求。光學(xué)器件晶圓需避免邊緣微裂紋影響透光率。中清航科紫外皮秒激光系統(tǒng)（波長(zhǎng)355nm）配合光束整形模塊，實(shí)現(xiàn)吸收率>90%的冷加工，切割面粗糙度Ra<0.05μm，突破攝像頭模組良率瓶頸。

晶圓切割的工藝參數(shù)設(shè)置需要豐富的經(jīng)驗(yàn)積累，中清航科開發(fā)的智能工藝推薦系統(tǒng)，基于千萬(wàn)級(jí)切割數(shù)據(jù)訓(xùn)練而成。只需輸入晶圓材料、厚度、切割道寬等基本參數(shù)，系統(tǒng)就能自動(dòng)生成比較好的切割方案，包括激光功率、切割速度、聚焦位置等關(guān)鍵參數(shù)，新手操作人員也能快速達(dá)到工程師的工藝水平，大幅降低技術(shù)門檻。半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)設(shè)備的占地面積有著嚴(yán)格要求，中清航科采用緊湊型設(shè)計(jì)理念，將晶圓切割設(shè)備的占地面積控制在 2 平方米以內(nèi)，較傳統(tǒng)設(shè)備減少 40%。在有限空間內(nèi)，通過(guò)巧妙的結(jié)構(gòu)布局實(shí)現(xiàn)全部功能集成，同時(shí)預(yù)留擴(kuò)展接口，方便后續(xù)根據(jù)產(chǎn)能需求增加模塊，滿足不同規(guī)模生產(chǎn)車間的布局需求。晶圓切割培訓(xùn)課程中清航科每月開放，已認(rèn)證工程師超800名。

針對(duì)高粘度晶圓切割液的回收處理，中清航科研發(fā)了離心式過(guò)濾凈化系統(tǒng)。該系統(tǒng)通過(guò)三級(jí)過(guò)濾工藝，可去除切割液中 99.9% 的固體顆粒雜質(zhì)，使切割液循環(huán)利用率提升至 80% 以上，不只降低耗材成本，還減少?gòu)U液排放。同時(shí)配備濃度自動(dòng)調(diào)節(jié)功能，確保切割液性能穩(wěn)定，保障切割質(zhì)量一致性。在晶圓切割設(shè)備的維護(hù)便捷性設(shè)計(jì)上，中清航科秉持 “易維護(hù)” 理念。設(shè)備關(guān)鍵部件采用模塊化設(shè)計(jì)，更換激光頭、切割刀片等中心組件只需 15 分鐘，較傳統(tǒng)設(shè)備縮短 70% 維護(hù)時(shí)間。同時(shí)配備維護(hù)指引系統(tǒng)，通過(guò) AR 技術(shù)直觀展示維護(hù)步驟，降低對(duì)專業(yè)維護(hù)人員的依賴，減少客戶運(yùn)維壓力。切割道寬度測(cè)量?jī)x中清航科研發(fā)，在線檢測(cè)精度達(dá)0.05μm。江蘇半導(dǎo)體晶圓切割廠

中清航科晶圓切割機(jī)支持物聯(lián)網(wǎng)運(yùn)維，故障響應(yīng)速度提升60%。常州碳化硅晶圓切割寬度

UV膜殘膠導(dǎo)致芯片貼裝失效。中清航科研發(fā)酶解清洗液，在50℃下選擇性分解膠層分子鏈，30秒清理99.9%殘膠且不損傷鋁焊盤，替代高污染溶劑清洗。針對(duì)3D NAND多層堆疊結(jié)構(gòu)，中清航科采用紅外視覺穿透定位+自適應(yīng)焦距激光，實(shí)現(xiàn)128層晶圓的同步切割。垂直對(duì)齊精度±1.2μm，層間偏移誤差<0.3μm。中清航科綠色方案整合電絮凝+反滲透技術(shù)，將切割廢水中的硅粉、金屬離子分離回收，凈化水重復(fù)利用率達(dá)98%，符合半導(dǎo)體廠零液體排放（ZLD）標(biāo)準(zhǔn)。