企業(yè)商機(jī)-張家港中賀自動(dòng)化科技有限公司
  • 高新區(qū)省電光刻系統(tǒng)按需定制
    高新區(qū)省電光刻系統(tǒng)按需定制

    兩種工藝常規(guī)光刻技術(shù)是采用波長(zhǎng)為2000~4500埃的紫外光作為圖像信息載體,以光致抗蝕劑為中間(圖像記錄)媒介實(shí)現(xiàn)圖形的變換、轉(zhuǎn)移和處理,**終把圖像信息傳遞到晶片(主要指硅片)或介質(zhì)層上的一種工藝。在廣義上,它包括光復(fù)印和刻蝕工藝兩個(gè)主要方面。①光復(fù)印工藝...

    2025-07-18
  • 淮安常見光刻系統(tǒng)規(guī)格尺寸
    淮安常見光刻系統(tǒng)規(guī)格尺寸

    浸沒式光刻機(jī)是通過在物鏡與晶圓之間注入超純水,等效縮短光源波長(zhǎng)并提升數(shù)值孔徑,從而實(shí)現(xiàn)更高分辨率的半導(dǎo)體制造**設(shè)備。2024年9月工信部文件顯示,國(guó)產(chǎn)氟化氬浸沒式光刻機(jī)套刻精度已達(dá)到≤8nm水平。該技術(shù)研發(fā)涉及浸液系統(tǒng)、光學(xué)控制等多項(xiàng)復(fù)雜工藝,林本堅(jiān)團(tuán)隊(duì)在浸...

    2025-07-18
  • 工業(yè)園區(qū)耐用精密調(diào)整裝置按需定制
    工業(yè)園區(qū)耐用精密調(diào)整裝置按需定制

    42、始用擋料銷(板)始用擋料銷(板)是供材料起始端部送進(jìn)時(shí)定位用的零件。始用擋料銷(板)都是移動(dòng)式的。43、拼塊塊是組成一個(gè)完整凹模、凸模、卸料板或固定板等的各個(gè)拼合零件。44、擋塊(板)擋塊(板)是供經(jīng)側(cè)刃切出缺口的材料送進(jìn)時(shí)定位用的淬硬零件,兼用以平衡側(cè)...

    2025-07-18
  • 張家港購(gòu)買光刻系統(tǒng)批量定制
    張家港購(gòu)買光刻系統(tǒng)批量定制

    目 前EUV技 術(shù) 采 用 的 曝 光 波 長(zhǎng) 為13.5nm,由于其具有如此短的波長(zhǎng),所有光刻中不需要再使用光學(xué)鄰近效應(yīng)校正(OPC)技術(shù),因而它可以把光刻技術(shù)擴(kuò)展到32nm以下技術(shù)節(jié)點(diǎn)。2009年9月Intel*** 次 向 世 人 展 示 了22 nm工...

    2025-07-17
  • 常州常見精密調(diào)整裝置推薦貨源
    常州常見精密調(diào)整裝置推薦貨源

    西塞羅的著作《論共和國(guó)》,一本西元前一世紀(jì)的哲學(xué)對(duì)話錄,提及兩個(gè)現(xiàn)代被認(rèn)為是某種天象儀或太陽(yáng)系儀的儀器,可以預(yù)測(cè)日月和五顆行星在天球的位置。這兩個(gè)儀器都是由阿基米德制造,在阿基米德于西元前212年的敘拉古圍城戰(zhàn)身亡后,這兩臺(tái)機(jī)器被羅馬將領(lǐng)馬庫(kù)斯·克勞迪烏斯·馬...

    2025-07-17
  • 昆山省電光刻系統(tǒng)五星服務(wù)
    昆山省電光刻系統(tǒng)五星服務(wù)

    光刻系統(tǒng)SUSS是一種應(yīng)用于半導(dǎo)體制造領(lǐng)域的工藝試驗(yàn)儀器,其比較大基片尺寸為6英寸,可實(shí)現(xiàn)0.5μm的分辨率和1μm的**小線寬 [1]。該系統(tǒng)通過精密光學(xué)曝光技術(shù)完成微電子器件的圖形轉(zhuǎn)移,為集成電路研發(fā)和生產(chǎn)提供關(guān)鍵工藝支持。比較大基片處理能力:支持直徑6英...

    2025-07-17
  • 蘇州耐用光刻系統(tǒng)多少錢
    蘇州耐用光刻系統(tǒng)多少錢

    在曝光過程中,需要對(duì)不同的參數(shù)和可能缺陷進(jìn)行跟蹤和控制,會(huì)用到檢測(cè)控制芯片/控片(Monitor Chip)。根據(jù)不同的檢測(cè)控制對(duì)象,可以分為以下幾種:a、顆??仄≒article MC):用于芯片上微小顆粒的監(jiān)控,使用前其顆粒數(shù)應(yīng)小于10顆;b、卡盤顆粒控...

    2025-07-17
  • 淮安耐用精密調(diào)整裝置選擇
    淮安耐用精密調(diào)整裝置選擇

    25.模墊拆卸分解及清潔檢查各磨耗面與重新涂抹潤(rùn)滑脂后組裝試車.1、沖床工必須經(jīng)過學(xué)習(xí),掌握沖床的結(jié)構(gòu)、性能,熟悉操作規(guī)程并取得操作許可方可**操作。2、正確使用沖床上安全保護(hù)和控制裝置,不得任意拆動(dòng)。3、檢查沖床各傳動(dòng)、連接、潤(rùn)滑等部位及防護(hù)保險(xiǎn)裝置是否正常...

    2025-07-17
  • 高新區(qū)耐用精密調(diào)整裝置工廠直銷
    高新區(qū)耐用精密調(diào)整裝置工廠直銷

    主要技術(shù)指標(biāo):○精密壓力表測(cè)量范圍、精確度等級(jí)○型號(hào)、彈簧管材料、測(cè)量范圍MPa、精確度等級(jí)、結(jié)構(gòu)特點(diǎn)○精密壓力表使用環(huán)境條件:5~40℃,相對(duì)濕度不大于80%,且環(huán)境震動(dòng)和壓力源的波動(dòng)對(duì)儀表的精確讀數(shù)無影響?!鹁軌毫Ρ頊囟扔绊懀菏褂铆h(huán)境溫度如偏離20±3℃...

    2025-07-17
  • 江蘇銷售光刻系統(tǒng)量大從優(yōu)
    江蘇銷售光刻系統(tǒng)量大從優(yōu)

    b、堅(jiān)膜,以提高光刻膠在離子注入或刻蝕中保護(hù)下表面的能力;c、進(jìn)一步增強(qiáng)光刻膠與硅片表面之間的黏附性;d、進(jìn)一步減少駐波效應(yīng)(Standing Wave Effect)。常見問題:a、烘烤不足(Underbake)。減弱光刻膠的強(qiáng)度(抗刻蝕能力和離子注入中的阻...

    2025-07-17
  • 虎丘區(qū)直銷光學(xué)鏡頭量大從優(yōu)
    虎丘區(qū)直銷光學(xué)鏡頭量大從優(yōu)

    鏡頭的改變:在相同物距 和光圈的情況下,使用不同焦距的鏡頭可改變景深,鏡頭焦距越短,**深越大,對(duì)于超廣角鏡(8---15毫米),景深非常大,以致無需調(diào)焦,因?yàn)槊恳患?jí)光圈的景深都是清晰。光學(xué)工業(yè)鏡頭***用于反射度極高的物體定位檢測(cè),如:金屬、玻璃、膠片、晶片...

    2025-07-16
  • 高新區(qū)比較好的光刻系統(tǒng)按需定制
    高新區(qū)比較好的光刻系統(tǒng)按需定制

    英特爾高級(jí)研究員兼技術(shù)和制造部先進(jìn)光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說過“針對(duì)未來的IC設(shè)計(jì),我認(rèn)為正確的方向是具有互補(bǔ)性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當(dāng)前能力**強(qiáng)且**成熟的技術(shù),能夠滿足精確度和成本要求,但缺點(diǎn)是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...

    2025-07-16
  • 常州耐用精密調(diào)整裝置多少錢
    常州耐用精密調(diào)整裝置多少錢

    精密壓力表由測(cè)壓系統(tǒng)、傳動(dòng)機(jī)構(gòu)、指示裝置和外殼組成。精密壓力表的測(cè)壓彈性元件經(jīng)特殊工藝處理,使精密壓力表性能穩(wěn)定可靠,與高精度的傳動(dòng)機(jī)構(gòu)配套調(diào)試后,能確保精確的指示精度。精密壓力表主要用來校驗(yàn)工業(yè)用普通壓力表,精密壓力表也可在工藝現(xiàn)場(chǎng)精確的測(cè)量對(duì)銅合金和合金結(jié)...

    2025-07-16
  • 連云港常見光刻系統(tǒng)多少錢
    連云港常見光刻系統(tǒng)多少錢

    ③縮短圖像傳遞鏈,減少工藝上造成的缺陷和誤差,可獲得很高的成品率。④采用精密自動(dòng)調(diào)焦技術(shù),避免高溫工藝引起的晶片變形對(duì)成像質(zhì)量的影響。⑤采用原版自動(dòng)選擇機(jī)構(gòu)(版庫(kù)),不但有利于成品率的提高,而且成為能靈活生產(chǎn)多電路組合的常規(guī)曝光系統(tǒng)。浸入式光刻技術(shù)原理這種系統(tǒng)...

    2025-07-16
  • 姑蘇區(qū)耐用光刻系統(tǒng)工廠直銷
    姑蘇區(qū)耐用光刻系統(tǒng)工廠直銷

    2019年荷蘭阿斯麥公司推出新一代極紫外光刻系統(tǒng),**了當(dāng)今**的第五代光刻系統(tǒng),可望將摩爾定律物理極限推向新的高度 [5]。中國(guó)工程院《Engineering》期刊于2021年組建跨學(xué)科評(píng)選委員會(huì),通過全球**提名、公眾問卷等多階段評(píng)審,選定近五年內(nèi)完成且具...

    2025-07-16
  • 南通耐用光刻系統(tǒng)批量定制
    南通耐用光刻系統(tǒng)批量定制

    英特爾高級(jí)研究員兼技術(shù)和制造部先進(jìn)光刻技術(shù)總監(jiān)YanBorodovsky在去年說過“針對(duì)未來的IC設(shè)計(jì),我認(rèn)為正確的方向是具有互補(bǔ)性的光刻技術(shù)。193納米光刻是當(dāng)前能力**強(qiáng)且**成熟的技術(shù),能夠滿足精確度和成本要求,但缺點(diǎn)是分辨率低。利用一種新技術(shù)作為193...

    2025-07-16
  • 徐州比較好的光刻系統(tǒng)量大從優(yōu)
    徐州比較好的光刻系統(tǒng)量大從優(yōu)

    決定光刻膠涂膠厚度的關(guān)鍵參數(shù):光刻膠的黏度(Viscosity),黏度越低,光刻膠的厚度越?。恍D(zhuǎn)速度,速度越快,厚度越?。挥绊懝饪棠z均勻性的參數(shù):旋轉(zhuǎn)加速度,加速越快越均勻;與旋轉(zhuǎn)加速的時(shí)間點(diǎn)有關(guān)。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長(zhǎng)有關(guān)(因?yàn)椴煌?jí)別的曝光...

    2025-07-16
  • 江蘇省電光刻系統(tǒng)選擇
    江蘇省電光刻系統(tǒng)選擇

    決定光刻膠涂膠厚度的關(guān)鍵參數(shù):光刻膠的黏度(Viscosity),黏度越低,光刻膠的厚度越?。恍D(zhuǎn)速度,速度越快,厚度越薄;影響光刻膠均勻性的參數(shù):旋轉(zhuǎn)加速度,加速越快越均勻;與旋轉(zhuǎn)加速的時(shí)間點(diǎn)有關(guān)。一般旋涂光刻膠的厚度與曝光的光源波長(zhǎng)有關(guān)(因?yàn)椴煌?jí)別的曝光...

    2025-07-16
  • 連云港銷售精密調(diào)整裝置按需定制
    連云港銷售精密調(diào)整裝置按需定制

    1902年5月17日,考古學(xué)家維拉理奧斯·史大理斯檢查發(fā)現(xiàn)的沉船中物品時(shí)發(fā)現(xiàn)一個(gè)齒輪嵌在一塊巖石中。 [1]史大理斯一開始認(rèn)為這是天文鐘,但多數(shù)學(xué)者認(rèn)為這是時(shí)代錯(cuò)誤,這物品和同時(shí)期發(fā)現(xiàn)的其他東西相較之下太過復(fù)雜。對(duì)該物品調(diào)查的熱潮很快下降,直到1951年英國(guó)物...

    2025-07-16
  • 淮安常見光學(xué)鏡頭五星服務(wù)
    淮安常見光學(xué)鏡頭五星服務(wù)

    用長(zhǎng)焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物,影像質(zhì)量受天氣影響較大,紫外線、塵埃和水汽都會(huì)使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡?。因此,用長(zhǎng)焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物時(shí),比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對(duì)象。此外,攝影時(shí)可用UV鏡、天光鏡或偏振鏡來提高影像清晰度;若是黑白攝影,還...

    2025-07-16
  • 虎丘區(qū)本地光學(xué)鏡頭選擇
    虎丘區(qū)本地光學(xué)鏡頭選擇

    以適用于35毫米單鏡頭反光照相機(jī)的交換鏡頭為例,標(biāo)準(zhǔn)鏡頭通常是指焦距在40至55毫米之間的攝影鏡頭,它是所有鏡頭中**基本的一種攝影鏡頭。 標(biāo)準(zhǔn)鏡頭給人以記實(shí)性的視覺效果畫面,所以在實(shí)際的拍攝中,它的使用頻率是較高的。但是,從另一方面看,由于標(biāo)準(zhǔn)鏡頭的畫面效果...

    2025-07-16
  • 姑蘇區(qū)購(gòu)買精密調(diào)整裝置推薦貨源
    姑蘇區(qū)購(gòu)買精密調(diào)整裝置推薦貨源

    25.模墊拆卸分解及清潔檢查各磨耗面與重新涂抹潤(rùn)滑脂后組裝試車.1、沖床工必須經(jīng)過學(xué)習(xí),掌握沖床的結(jié)構(gòu)、性能,熟悉操作規(guī)程并取得操作許可方可**操作。2、正確使用沖床上安全保護(hù)和控制裝置,不得任意拆動(dòng)。3、檢查沖床各傳動(dòng)、連接、潤(rùn)滑等部位及防護(hù)保險(xiǎn)裝置是否正常...

    2025-07-16
  • 昆山供應(yīng)光學(xué)鏡頭推薦貨源
    昆山供應(yīng)光學(xué)鏡頭推薦貨源

    用長(zhǎng)焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物,影像質(zhì)量受天氣影響較大,紫外線、塵埃和水汽都會(huì)使影像清晰度下降、反差變?nèi)鹾蜕什伙柡汀R虼?,用長(zhǎng)焦頭拍攝遠(yuǎn)處景物時(shí),比較好要選擇反差較大、色彩較飽和的景物做拍攝對(duì)象。此外,攝影時(shí)可用UV鏡、天光鏡或偏振鏡來提高影像清晰度;若是黑白攝影,還...

    2025-07-16
  • 吳江區(qū)省電光學(xué)鏡頭推薦貨源
    吳江區(qū)省電光學(xué)鏡頭推薦貨源

    用廣角鏡頭拍攝的畫面。能在突出**主體和前景的同時(shí),能有***的背景??梢栽谳^小的環(huán)境里,拍到較多的景物,在相同的拍攝距離時(shí),得到的景象比用標(biāo)準(zhǔn)鏡頭拍攝的要小。當(dāng)拍攝較近的景物時(shí),會(huì)產(chǎn)生******變形,還會(huì)使前后景物之間的距離感增大。由于它的景深長(zhǎng),很容易把...

    2025-07-16
  • 蘇州比較好的光刻系統(tǒng)規(guī)格尺寸
    蘇州比較好的光刻系統(tǒng)規(guī)格尺寸

    所有實(shí)際電子束曝光、顯影后圖形的邊緣要往外擴(kuò)展,這就是所謂的“電子束鄰近效應(yīng)。同時(shí),半導(dǎo)體基片上如果有絕緣的介質(zhì)膜,電子通過它時(shí)也會(huì)產(chǎn)生一定量的電荷積累,這些積累的電荷同樣會(huì)排斥后續(xù)曝光的電子,產(chǎn)生偏移,而不導(dǎo)電的絕緣體(如玻璃片)肯定不能采用電子束曝光。還有...

    2025-07-16
  • 吳江區(qū)常見精密調(diào)整裝置量大從優(yōu)
    吳江區(qū)常見精密調(diào)整裝置量大從優(yōu)

    2006年時(shí),萊特完成了他相信幾乎正確的復(fù)制品。萊特和安提基特拉機(jī)械研究計(jì)劃成員仍同時(shí)進(jìn)行安提基特拉機(jī)械的研究。萊特稍微修改他的模型,引進(jìn)了計(jì)劃團(tuán)隊(duì)建議的針狀和槽狀嚙合齒輪,這更精確模擬了月球的角速度異常變化。2007年3月6日他在希臘的雅典國(guó)家考古博物館展示...

    2025-07-16
  • 吳江區(qū)銷售光學(xué)鏡頭多少錢
    吳江區(qū)銷售光學(xué)鏡頭多少錢

    魚眼鏡頭通常采用內(nèi)置濾光鏡的方式,根據(jù)拍攝需要,由攝影者操縱鏡頭上的濾光鏡轉(zhuǎn)換環(huán),使需要的濾光鏡轉(zhuǎn)換至鏡頭的攝影光路中。魚眼鏡頭的前鏡片是整個(gè)鏡頭中相當(dāng)重要的鏡片,由于它向鏡頭前部拋出,故攝影者在拍攝操作(尤其是湊近被攝物拍攝)時(shí)要特別注意不要碰撞鏡片。另外,...

    2025-07-16
  • 姑蘇區(qū)本地光學(xué)鏡頭規(guī)格尺寸
    姑蘇區(qū)本地光學(xué)鏡頭規(guī)格尺寸

    優(yōu)點(diǎn)雖然使用長(zhǎng)焦距鏡頭要受到不少因素的影響,但其優(yōu)點(diǎn)卻是主要的。在遠(yuǎn)距離拍攝風(fēng)光、人物,在看臺(tái)拍攝舞臺(tái)、體育比賽等,在動(dòng)物園拍攝動(dòng)物,在野外拍攝禽獸,加輔助鏡進(jìn)行近拍等等,在這些眾多的領(lǐng)域中,無處不是它的用武之地。在一般情況下拍攝,為了保持照相機(jī)的穩(wěn)定,比較好...

    2025-07-15
  • 吳江區(qū)供應(yīng)光學(xué)鏡頭規(guī)格尺寸
    吳江區(qū)供應(yīng)光學(xué)鏡頭規(guī)格尺寸

    按接口C型鏡頭法蘭焦距是安裝法蘭到入射鏡頭平行光的匯聚點(diǎn)之間的距離。法蘭焦距為17.526mm或0.690in。安裝羅紋為:直徑1in,32牙.in。鏡頭可以用在長(zhǎng)度為0.512in (13mm)以內(nèi)的線陣傳感器。但是,由于幾何變形和市場(chǎng)角特性,必須鑒別短焦鏡...

    2025-07-15
  • 常州常見光刻系統(tǒng)量大從優(yōu)
    常州常見光刻系統(tǒng)量大從優(yōu)

    電子束光刻基本上分兩大類,一類是大生產(chǎn)光掩模版制造的電子束曝光系統(tǒng),另一類是直接在基片上直寫納米級(jí)圖形的電子束光刻系統(tǒng)。電子束光刻技術(shù)起源于掃描電鏡,**早由德意志聯(lián)邦共和國(guó)杜平根大學(xué)的G.Mollenstedt等人在20世紀(jì)60年代提出。電子束曝光的波長(zhǎng)取決...

    2025-07-15
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