國內光斑分析儀原廠

來源: 發(fā)布時間:2025-07-31

選擇適合特定應用的 BeamHere 光斑分析儀需綜合考量光束特性、應用場景及功能需求:

 1. 光束特性分析 光斑尺寸:亞微米級光斑(如半導體加工)優(yōu)先選擇狹縫式(支持 2.5μm 精度),毫米級光斑(如激光焊接)推薦相機式(覆蓋 10mm 量程)。 功率等級:高功率激光(如工業(yè)切割)應選狹縫式(直接測量近 10W),微瓦級弱光(如科研實驗)可采用相機式(通過 6 片衰減片適配)。 光束形態(tài):高斯或規(guī)則光斑兩者均可(狹縫式更經濟),非高斯光束(如貝塞爾光束)需相機式保留細節(jié)。 脈沖特性:單脈沖分析選相機式(觸發(fā)同步),連續(xù)或高頻脈沖適配狹縫式(需匹配掃描頻率)。

 2. 應用場景適配 工業(yè)制造:高功率加工(>1W)選狹縫式,動態(tài)監(jiān)測與大光斑校準選相機式,組合方案可覆蓋全流程需求。 醫(yī)療設備:眼科準分子激光需相機式實時監(jiān)測能量分布,脈沖激光適配觸發(fā)模式,確保手術精度。 :超短脈沖測量、復雜光束分析(如 M2 因子)依賴相機式,材料加工優(yōu)化可結合狹縫式高精度掃描。 光通信:光纖端面檢測選相機式分析光斑形態(tài),激光器表征適配狹縫式高靈敏度測量。 半導體行業(yè)激光光束質量檢測方案。國內光斑分析儀原廠

光斑分析儀

Dimension-Labs 推出的掃描狹縫式光斑分析儀,通過國內的雙模式切換技術,實現(xiàn) 190-2700nm 寬光譜覆蓋與 2.5μm-10mm 光束直徑測量。其 0.1μm 超高分辨率可捕捉亞微米級光斑細節(jié),創(chuàng)新設計解決三大檢測痛點: 小光斑測量:刀口模式分析 < 20μm 光斑形態(tài),避免像素丟失 高功率檢測:狹縫物理衰減機制允許直接測量近 10W 激光,無需衰減片 大光斑分析:狹縫模式支持 10mm 光斑能量分布檢測 設備采用正交狹縫轉動輪結構,通過旋轉掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),經算法處理輸出光束直徑、橢圓率等參數(shù)。緊湊設計適配多場景安裝,通過 CE/FCC 認證,適用于激光加工、醫(yī)療設備及科研領域,幫助客戶提升光束質量檢測效率,降低檢測成本。狹縫光斑分析儀操作光斑分析儀保修期多長?維度光電整機 3 年質保,部件 5 年延保。

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維度光電 BeamHere 光斑分析儀不只是基礎測試儀器,更是一套高效的激光應用驗證方案。它深度適配光束整形檢驗、光鑷系統(tǒng)檢測、光路準直監(jiān)測等**應用場景,針對不同場景的檢測需求預設了專屬檢測模式。例如在光束整形檢驗中,能自動對比整形前后的光斑參數(shù),快速判斷整形效果;在光鑷系統(tǒng)檢測時,可精細捕捉光鑷焦點的能量分布,保障細胞操控的穩(wěn)定性。硬件上采用正交狹縫轉動輪結構,通過機械設計的優(yōu)化進一步提升測量精度,確保在復雜應用場景中數(shù)據(jù)的可靠性。用戶無需額外搭配輔助設備,*通過這一臺儀器就能完成應用驗證的全流程,***縮短激光應用從研發(fā)到落地的周期。這種場景化的設計讓它成為激光應用驗證的 “高效搭檔”。

國內激光光束質量分析市場長期由歐美品牌主導,行業(yè)存在三大實際痛點:產品型號相對單一(難以同時滿足亞微米光斑與高功率檢測需求)、定制周期較長(通常需3-6個月)、服務響應較為遲緩(返廠維修平均影響生產35天/次)。全場景產品矩陣狹縫式方案:具備0.1μm分辨率,可直接測量10W激光,支持±90°任意角度掃描,有效滿足半導體加工等亞微米級檢測場景的需求。相機式方案:采用5.5μm像元精度設計,通過6片濾光片轉輪實現(xiàn)1μW-1W寬功率范圍檢測,尤其適合復雜光斑形態(tài)的分析場景。定制化服務:提供12項定制選項(涵蓋波長擴展、自動化接口等方向),實現(xiàn)5天短周期交付,快速響應用戶個性化需求。未來,維度光電將持續(xù)聚焦多模態(tài)光束分析技術與智能化診斷系統(tǒng)的研發(fā),為智能制造、醫(yī)療科技等領域提供穩(wěn)定的技術支撐。光斑分析儀維護成本?維度光電遠程指導維修,降低 80% 人工成本。

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Dimension-Labs 掃描狹縫式光斑分析儀系列以國內的刀口 / 狹縫雙模式切換技術為,覆蓋 190-2700nm 全光譜,可測 2.5μm 至 10mm 光束直徑。其 0.1μm 超高分辨率突破傳統(tǒng)設備極限,捕捉亞微米級光斑細節(jié)。 技術優(yōu)勢: 雙模式智能適配:軟件自主切換刀口 / 狹縫模式,解決 < 20μm 極小光斑與 10mm 大光斑的測量難題 高功率安全檢測:創(chuàng)新狹縫物理衰減機制,無需外置衰減片即可直接測量近 10W 激光 超分辨率成像:基于狹縫掃描原理,完整還原光斑能量分布,避免特征丟失 設備內置正交狹縫轉動輪,通過旋轉掃描同步采集 XY 軸數(shù)據(jù),經算法處理輸出 20 + 光束參數(shù)。緊湊模塊化設計適配工業(yè)與實驗室場景,通過 CE/FCC 認證,在 - 40℃至 85℃環(huán)境穩(wěn)定工作,應用于激光加工、醫(yī)療設備及科研領域,助力客戶提升檢測精度與效率。光束質量M2怎么測量?維度光斑分析儀要多少錢

光斑分析儀搭配什么 M2 因子測量模塊好?國內光斑分析儀原廠

如何使用光斑分析儀 Step 1 準備設備 將 BeamHere 光斑分析儀固定在光具座上,調整高度使激光束中心與 sensor 靶面重合。用 Type-C 線連接分析儀與電腦,打開 BeamHere 軟件等待設備識別。 Step 2 采集數(shù)據(jù) 開啟激光器預熱 10 分鐘,點擊軟件 "開始采集" 按鈕。實時觀察 2D 成像界面,確保光斑無過曝或欠曝,可通過轉輪調節(jié)衰減片至合適狀態(tài)。 Step 3 分析參數(shù) 在 "高級分析" 模塊勾選所需參數(shù),軟件自動計算光斑尺寸(±0.5μm 精度)、能量均勻性(CV 值)及光束質量因子。3D 視圖支持手勢縮放,便于觀察高階橫模分布。 Step 4 驗證結果 切換至 "歷史記錄" 對比多次測量數(shù)據(jù),使用 "統(tǒng)計分析" 功能生成標準差曲線。若發(fā)現(xiàn)異常,可調用 "單點測量" 工具檢查特定位置能量值。 Step 5 導出報告 在 "報告模板" 中選擇 "科研版" 或 "工業(yè)版",自動生成帶水印的 PDF 報告,包含光斑圖像、參數(shù)表格、趨勢圖表及 QC 判定結果。國內光斑分析儀原廠