隨著 OLED、Mini LED 等新型顯示屏向高分辨率、窄邊框方向發(fā)展,面板基板上的膠層殘留問題愈發(fā)凸顯。在顯示屏電極制備工序中,光刻膠作為圖形轉(zhuǎn)移的 “模板”,使用后若殘留于電極間隙,會導致信號傳輸受阻,出現(xiàn)亮線、暗點等顯示故障。此時,等離子除膠設(shè)備的準確清潔能力便成為品質(zhì)保障的關(guān)鍵。不同于傳統(tǒng)機械擦拭易造成基板劃痕,等離子除膠設(shè)備能通過調(diào)整等離子體的能量密度,作用于有機膠層而不損傷基板表面的金屬電極或玻璃基材。例如在某 OLED 面板生產(chǎn)線中,針對柔性基板的超薄特性,設(shè)備采用低功率等離子體處理模式,在去除邊框區(qū)域殘留膠層的同時,確保基板彎曲性能不受影響。此外,該設(shè)備還支持連續(xù)式生產(chǎn),與生產(chǎn)線傳送帶無縫銜接,每小時可處理近千片基板,滿足顯示屏行業(yè)大規(guī)模量產(chǎn)的需求,助力高畫質(zhì)面板穩(wěn)定出貨。其工作原理是通過高頻電場將氣體電離,形成高活性等離子體。山西智能等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)

等離子除膠設(shè)備在長期運行過程中,展現(xiàn)出優(yōu)異的穩(wěn)定性。設(shè)備采用優(yōu)品質(zhì)的重要部件和精密的制造工藝,如選用耐用的等離子體發(fā)生器、穩(wěn)定的氣體控制系統(tǒng)等,確保設(shè)備在長時間連續(xù)作業(yè)中不易出現(xiàn)故障。設(shè)備的電路系統(tǒng)經(jīng)過優(yōu)化設(shè)計,具備良好的抗干擾能力,能在復(fù)雜的工業(yè)生產(chǎn)環(huán)境中穩(wěn)定運行,不受電網(wǎng)電壓波動、周圍設(shè)備電磁干擾等因素的影響。同時,設(shè)備配備了完善的保護機制,如過壓保護、過流保護、過熱保護等,當設(shè)備運行參數(shù)超出安全范圍時,保護系統(tǒng)會及時啟動,切斷電源或調(diào)整參數(shù),避免設(shè)備損壞。這種穩(wěn)定的性能表現(xiàn),能保障企業(yè)生產(chǎn)的連續(xù)性,減少因設(shè)備故障導致的生產(chǎn)延誤。山西智能等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)兼容UV曝光、電子束曝光等多種光刻工藝殘留。

針對金屬工件表面的膠漬,等離子除膠設(shè)備展現(xiàn)出明顯優(yōu)勢。傳統(tǒng)金屬除膠常采用機械打磨或化學浸泡方式,機械打磨易造成金屬表面劃傷,影響工件精度和外觀;化學浸泡則可能導致金屬腐蝕,還會產(chǎn)生大量廢水污染環(huán)境。而等離子除膠設(shè)備利用高能等離子體作用,不會對金屬表面造成物理損傷,也無需使用化學藥劑。它能快速去除金屬表面的各類膠層,包括環(huán)氧樹脂膠、丙烯酸酯膠等,同時還能對金屬表面進行活化處理,提高金屬表面的親水性和附著力,為后續(xù)的噴漆、鍍膜等工藝提供良好條件,提升金屬工件的整體品質(zhì)。
等離子除膠設(shè)備在新能源電池制造領(lǐng)域的應(yīng)用凸顯了其對材料性能的準確調(diào)控能力。在鋰離子電池極片生產(chǎn)中,該技術(shù)可徹底去除銅箔表面的有機涂層殘留和金屬雜質(zhì),同時通過表面活化處理增強電解液浸潤性,提升離子傳輸效率。對于固態(tài)電解質(zhì)薄膜,其干式處理特性避免了傳統(tǒng)濕法清洗導致的界面缺陷,能準確去除溶劑殘留并形成均勻表面,確保界面接觸穩(wěn)定性。在燃料電池雙極板制造中,等離子處理可同步去除石墨粉和模具油,并引入導電通道,優(yōu)化電流分布均勻性。此外,該設(shè)備還能用于電池回收預(yù)處理,通過選擇性分解粘結(jié)劑和氧化物,實現(xiàn)正極材料的有效分離。隨著電池能量密度要求的提升,等離子除膠技術(shù)已成為實現(xiàn)電極界面零缺陷制造的重心工藝之一。采用先進的真空技術(shù),能在真空環(huán)境下進行除膠作業(yè),避免外界雜質(zhì)污染基材。

等離子除膠設(shè)備主要由射頻/微波發(fā)生器、反應(yīng)腔室、真空系統(tǒng)及控制系統(tǒng)構(gòu)成。射頻發(fā)生器產(chǎn)生高頻電場電離氣體,形成等離子體;反應(yīng)腔室采用石英或金屬材質(zhì),配備紫外觀測窗以實時監(jiān)控工藝過程。真空系統(tǒng)維持穩(wěn)定氣壓,確保等離子體均勻分布;控制系統(tǒng)通過PLC或工控屏實現(xiàn)參數(shù)自動化調(diào)節(jié),如功率、溫度及氣體流量。例如,ST-3100型號采用ICP干法技術(shù),專為4-8英寸晶圓設(shè)計,支持各向同性蝕刻。模塊化設(shè)計還允許更換電極配置,適配不同應(yīng)用場景。設(shè)備能耗比化學清洗降低60%。湖南國產(chǎn)等離子除膠設(shè)備設(shè)備廠家
在光學鏡頭鍍膜前處理中,提升涂層附著力。山西智能等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)
玻璃制品在生產(chǎn)和加工過程中,表面常易附著膠漬,如玻璃貼膜后的殘留膠、玻璃器皿生產(chǎn)中的模具殘留膠等,等離子除膠設(shè)備對玻璃制品的除膠效果明顯。玻璃材質(zhì)相對脆弱,傳統(tǒng)機械除膠方式容易導致玻璃表面劃傷,化學除膠則可能腐蝕玻璃表面,影響玻璃的透明度和外觀。等離子除膠設(shè)備通過調(diào)節(jié)等離子體的能量和作用時間,可在不損傷玻璃表面的前提下,快速分解并去除表面膠漬。處理后的玻璃表面潔凈光滑,無任何殘留痕跡,能很好地保持玻璃的原有品質(zhì)。在液晶顯示屏玻璃基板生產(chǎn)中,等離子除膠設(shè)備更是不可或缺,它能準確去除基板表面的光刻膠殘留,保障液晶顯示屏的顯示效果。山西智能等離子除膠設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)
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