主營(yíng)產(chǎn)品: 微納加工技術(shù)服務(wù)|真空鍍膜技術(shù)服務(wù)|紫外光刻技術(shù)服務(wù)|材料刻蝕技術(shù)服務(wù)
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電子束真空鍍膜的物理過(guò)程:物理的氣相沉積技術(shù)的基本原理可分為三個(gè)工藝步驟:(1)電子束激發(fā)鍍膜材料金屬顆粒的氣化:即鍍膜材料的蒸發(fā)、升華從而...
感應(yīng)耦合等離子刻蝕(ICP)技術(shù),作為現(xiàn)代微納加工領(lǐng)域的中心工藝之一,憑借其高精度、高效率和高度可控性,在材料刻蝕領(lǐng)域展現(xiàn)出了非凡的潛力。I...
氮化鎵(GaN)作為第三代半導(dǎo)體材料的象征,具有禁帶寬度大、電子飽和漂移速度高、擊穿電場(chǎng)強(qiáng)等特點(diǎn),在高頻、大功率電子器件中具有普遍應(yīng)用前景。...
在半導(dǎo)體制造這一高科技領(lǐng)域中,光刻技術(shù)無(wú)疑扮演著舉足輕重的角色。作為制造半導(dǎo)體芯片的關(guān)鍵步驟,光刻技術(shù)不但決定了芯片的性能、復(fù)雜度和生產(chǎn)成本...
廣東省科學(xué)院半導(dǎo)體研究所微納加工平臺(tái),面向半導(dǎo)體光電子器件、功率電子器件、MEMS、生物芯片等前沿領(lǐng)域,致力于打造公益性、開(kāi)放性、支撐性樞紐中心。平臺(tái)擁有半導(dǎo)體制備工藝所需的整套儀器設(shè)備,建立了一條實(shí)驗(yàn)室研發(fā)線和一條中試線,加工尺寸覆蓋2-6英寸(部分8英寸),同時(shí)形成了一支與硬件有機(jī)結(jié)合的專業(yè)人才隊(duì)伍。平臺(tái)當(dāng)前緊抓技術(shù)創(chuàng)新和公共服務(wù),面向國(guó)內(nèi)外高校、科研院所以及企業(yè)提供開(kāi)放共享,為技術(shù)咨詢、創(chuàng)新研發(fā)、技術(shù)驗(yàn)證以及產(chǎn)品中試提供技術(shù)支持。