在半導(dǎo)體CVD工藝中,管式爐通過熱分解或化學(xué)反應(yīng)在襯底表面沉積薄膜。例如,生長二氧化硅(SiO?)絕緣層時,爐內(nèi)通入硅烷(SiH?)和氧氣,...
管式爐在硅外延生長中通過化學(xué)氣相沉積(CVD)實現(xiàn)單晶層的可控生長,典型工藝參數(shù)為溫度1100℃-1200℃、壓力100-500Torr,硅...
隨著半導(dǎo)體制造向 7nm、5nm 甚至更先進(jìn)制程邁進(jìn),對管式爐提出了前所未有的挑戰(zhàn)與更高要求。在氧化擴散、薄膜沉積等關(guān)鍵工藝中,需實現(xiàn)納米級...
管式爐具備精確的溫度控制能力,能夠?qū)囟染瓤刂圃跇O小的范圍內(nèi),滿足 3D - IC 制造中對溫度穩(wěn)定性的苛刻要求。在芯片鍵合工藝中,需要精...
賽瑞達(dá)智能電子裝備(無錫)有限公司于2021年9月由原青島賽瑞達(dá)電子裝備股份有限公司重組,引入新的投資而改制設(shè)立的。公司位于無錫市錫山經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū),注冊資本6521.74萬元,是一家專注于研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和服務(wù)的半導(dǎo)體工藝設(shè)備和光伏電池設(shè)備的裝備制造企業(yè)。 公司主要產(chǎn)品有:半導(dǎo)體工藝設(shè)備、硅基集成電路和器件工藝設(shè)備、LED工藝設(shè)備、碳化硅、氮化鎵工藝設(shè)備、納米、磁性材料工藝設(shè)備、航空航天工藝設(shè)備等。并可根據(jù)用戶需求提供定制化的設(shè)備和工藝解決方案。公司秉承“助產(chǎn)業(yè)發(fā)展,創(chuàng)美好未來”的使命,專精于半導(dǎo)體智能裝備的研發(fā)制造,致力于成為半導(dǎo)體裝備的重要品牌。“質(zhì)量、誠信、創(chuàng)新、服務(wù)、共贏”是我們的重要價值觀,我們將始終堅持“質(zhì)量是企業(yè)的生命,誠信是立足的根本,服務(wù)是發(fā)展的保障,不斷創(chuàng)新是賽瑞達(dá)永恒的追求”的經(jīng)營理念,持續(xù)經(jīng)營,為廣大客戶創(chuàng)造價值,和員工共同發(fā)展。