實時成像微光顯微鏡原理

可探測到亮點的情況

一、由缺陷導(dǎo)致的亮點結(jié)漏電（Junction Leakage）接觸毛刺（Contact Spiking）熱電子效應(yīng)（Hot Electrons）閂鎖效應(yīng)（Latch-Up）氧化層漏電（Gate Oxide Defects / Leakage (F-N Current)）多晶硅晶須（Poly-silicon Filaments）襯底損傷（Substrate Damage）物理損傷（Mechanical Damage）等。

二、器件本身固有的亮點飽和 / 有源狀態(tài)的雙極晶體管（Saturated/Active Bipolar Transistors）飽和狀態(tài)的 MOS 管 / 動態(tài) CMOS（Saturated MOS/Dynamic CMOS）正向偏置二極管 / 反向偏置二極管（擊穿狀態(tài)）（Forward Biased Diodes / Reverse Biased Diodes (Breakdown)）等。 我司自主研發(fā)的桌面級設(shè)備其緊湊的機身設(shè)計，可節(jié)省實驗室空間，適合在小型研發(fā)機構(gòu)或生產(chǎn)線上靈活部署。實時成像微光顯微鏡原理

我司專注于微弱信號處理技術(shù)的深度開發(fā)與場景化應(yīng)用，憑借深厚的技術(shù)積累，已成功推出多系列失效分析檢測設(shè)備及智能化解決方案。更懂本土半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的需求，軟件界面貼合工程師操作習(xí)慣，無需額外適配成本即可快速融入產(chǎn)線流程。

性價比優(yōu)勢直擊痛點：相比進口設(shè)備，采購成本降低 30% 以上，且本土化售后團隊實現(xiàn) 24 小時響應(yīng)、48 小時現(xiàn)場維護，備件供應(yīng)周期縮短至 1 周內(nèi)，徹底擺脫進口設(shè)備 “維護慢、成本高” 的困境。用國產(chǎn)微光顯微鏡，為芯片質(zhì)量把關(guān)，讓失效分析更高效、更經(jīng)濟、更可控！ 直銷微光顯微鏡成像微光顯微鏡可搭配偏振光附件，分析樣品的偏振特性，為判斷晶體缺陷方向提供獨特依據(jù)，豐富檢測維度。

定位短路故障點短路是造成芯片失效的關(guān)鍵誘因之一。

當(dāng)芯片內(nèi)部電路發(fā)生短路時，短路區(qū)域會形成異常電流通路，引發(fā)局部溫度驟升，并伴隨特定波長的光發(fā)射現(xiàn)象。EMMI（微光顯微鏡）憑借其超高靈敏度，能夠捕捉這些由短路產(chǎn)生的微弱光信號，再通過對光信號的強度分布、空間位置等特征進行綜合分析，可實現(xiàn)對短路故障點的精確定位。

以一款高性能微處理器芯片為例，其在測試中出現(xiàn)不明原因的功耗激增問題，技術(shù)人員初步判斷為內(nèi)部電路存在短路隱患。通過EMMI對芯片進行全域掃描檢測，在極短時間內(nèi)便在芯片的某一特定功能模塊區(qū)域發(fā)現(xiàn)了光發(fā)射信號。結(jié)合該芯片的電路設(shè)計圖紙和版圖信息進行深入分析，終鎖定故障點為兩條相鄰的鋁金屬布線之間因絕緣層破損而發(fā)生的短路。這一定位為后續(xù)的故障修復(fù)和工藝改進提供了直接依據(jù)。

柵氧化層缺陷顯微鏡發(fā)光技術(shù)定位的失效問題中，薄氧化層擊穿現(xiàn)象尤為關(guān)鍵。然而，當(dāng)多晶硅與阱的摻雜類型一致時，擊穿并不必然伴隨著空間電荷區(qū)的形成。關(guān)于其發(fā)光機制的解釋如下：當(dāng)電流密度達到足夠高的水平時，會在失效區(qū)域產(chǎn)生的電壓降。該電壓降進而引起顯微鏡光譜區(qū)內(nèi)的場加速載流子散射發(fā)光現(xiàn)象。值得注意的是，部分發(fā)光點表現(xiàn)出不穩(wěn)定性，會在一段時間后消失。這一現(xiàn)象可歸因于局部電流密度的升高導(dǎo)致?lián)舸﹨^(qū)域熔化，進而擴大了擊穿區(qū)域，使得電流密度降低。微光顯微鏡分析 3D 封裝器件光子，結(jié)合光學(xué)原理和算法可預(yù)估失效點深度，為失效分析和修復(fù)提供參考。

這一技術(shù)不僅有助于快速定位漏電根源（如特定晶體管的柵氧擊穿、PN結(jié)邊緣缺陷等），更能在芯片量產(chǎn)階段實現(xiàn)潛在漏電問題的早期篩查，為采取針對性修復(fù)措施（如優(yōu)化工藝參數(shù)、改進封裝設(shè)計）提供依據(jù)，從而提升芯片的長期可靠性。例如，某批次即將交付的電源管理芯片在出廠前的EMMI抽檢中，發(fā)現(xiàn)部分芯片的邊角區(qū)域存在持續(xù)穩(wěn)定的微弱光信號。結(jié)合芯片的版圖設(shè)計與工藝參數(shù)分析，確認該區(qū)域的NMOS晶體管因柵氧層局部厚度不足導(dǎo)致漏電。技術(shù)團隊據(jù)此對這批次芯片進行篩選，剔除了存在漏電隱患的產(chǎn)品，有效避免了缺陷芯片流入市場后可能引發(fā)的設(shè)備功耗異常、發(fā)熱甚至燒毀等風(fēng)險。靜電放電破壞半導(dǎo)體器件時，微光顯微鏡偵測其光子可定位故障點，助分析原因程度。廠家微光顯微鏡市場價

漏電結(jié)和接觸毛刺會產(chǎn)生亮點，這些亮點產(chǎn)生的光子能被微光顯微鏡捕捉到。實時成像微光顯微鏡原理

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